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편광을 이용한 기술로 따지자면 Malus(1808)와 Brewster(1815)가 그 원조라고 할 수 있는데 박막과 표면에의
응용을 따지자면 Paul Drude(1889)가 ellipsometry의 시조가 된다고 하겠다.
Drude를 시조로 삼자면 110여년이 지났는데 최근에 와서야 광원, detector, 컴퓨터 등의 발전과 함께 그 성능이 많이
개선이 되고 또한 박막과 표면을 이용한 공정이 늘면서 응용 분야가 크게 증가하게 되었다.
처음에는 대부분 수은등 등에서 나오는 단일 파장을 이용한 단파장(single wavelength) ellipsometry였고 그
측정 방법도 육안으로 null 현상을 측정하는 것이었기 때문에 정보의 양과 측정 속도면에서 매우 제한적이었다. 즉, 단파장 null
ellipsometry에서 숙련된 사용자가 한 파장에서 한 쌍의 데이터를 뽑는데 수분 이상이 걸리니 분석은 차치하고라도 측정 그
자체가 힘들었다. PMT(photomultiplier tube) 등의 detector를 도입하고 컴퓨터를 이용한 측정의 자동화가
시작된 것도 거의 70년대 초라 할 수 있다. 광원은 Xe-arc 램프나 텅스텐-할로겐 램프 등의 broad band source를
이용하고 stepping motor를 이용한 분광기로 비교적 넓은 분광 스펙트럼(200∼1000 nm)을 측정할 수 있게 되었고 그
측정속도도 컴퓨터 덕분에 수십개의 data로 구성된 스펙트럼을 측정하는 속도가 십수분대로 줄어들었다.
다음의 <표>는 펜실베니아 주립대의 Vedam교수가 제2회 국제 분광 ellipsometry 학회(1997년 미국
North Carolina, Charlston)에서 발표한 초청연설문에서 발췌한 것이다. 내용이 그리 정확한 것은 아니나 측정속도와
분광 측정 능력면에서의 개략적인 발전 사항을 보여주고 있다.
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